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即使在5纳米的超薄厚度下，手直世其依然有11.2K的超导转变温度和36±2T的上临界磁场。接能将面重要的是晶片规模尺寸高质量超导膜可以使用应用材料公司的Endura®300-mmImpulse™PVD物理气相沉积设备来制备。
该文并探讨了其超导转变温度，源电应管上临界磁场强度，不可逆磁场强度，超导相干长度等物理特性与其薄膜厚度的密切关系。力需理系（c）和（d）：5纳米和50纳米薄膜的上临界磁场以及不可逆磁场强度对于温度的关系。求响证实了使用工业规模的物理气相沉积技术为量子器件生产高性能外延超导薄膜的切实可行性。
统即图4 与磁场相关的氮化铌薄膜超导特性。西门右上角插图为氮化铌晶格常数以及（111）衍射峰的半高宽与其厚度的关系
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巨噬细胞不仅通过模式识别受体对病原体相关分子模式作出反应，力需理系而且还通过各种能感知温度、pH值、渗透压、氧气等的微环境受体启动免疫反应。基于RNA测序分析，求响超声过程中促进了一系列电压门控离子通道相关的基因表达和生物学进程。
统即图1. 压电效应增强M1巨噬细胞极化。西门免疫荧光染色和Westernblot都表明细胞内的培养超声刺激条件下β-PVDF薄膜上巨噬细胞诱导型一氧化氮合酶（iNOS）的表达水平相对其他组最高。
